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刘三姐(博士)

发布时间:2020-11-02 来源: 作者: 浏览数:
个人介绍 教学情况
科研项目 论著专利
学术兼职



刘三姐,湖南邵阳人,博士,讲师,304am永利集团官网青年骨干教师,岳阳
市“小荷”人才支持计划人选。
一、教育背景与工作经历
2014 年毕业于遵义师范学院物理与机电工程系物理学专业,获理学学士
学位;
2020 年毕业于北京科技大学数理学院物理学专业,获博士学位(硕博连
读);
2020 年至今在304am永利集团官网从事教学科研工作。
研究方向 :半导体物理
研究内容 :低温等离子体增强型原子层沉积高品质 AlN GaN 薄膜,采
用衬底表面原位处理的方法对界面进行调控,并研究其生长机理,围绕生长
过程中可能出现的杂质、外延等沉积难点和热点问题进行集中研究。
二、教学情况
主讲课程: 《大学物理》《集成电路工艺原理》
三、主持科研项目 1. 国家自然科学基金青年项目,异质外延 GaN 的界面调控方法及其机理研
究,批准号: 62304077, 2024.1-2026.12, 主持 , 在研 .
2. 湖南省自然科学基金青年项目,石英玻璃衬底上原子层沉积 GaN 薄膜及
其在 LED 器件中的应用研究,批准号: 2022JJ40163, 2022.1-2024.12, 主持 , 在研 .
三、 代表性学术成果
[1] Sanjie Liu et al. Plasma-enhanced Atomic Layer Deposition of Crystalline
GaN Thin Films on Quartz Substrates with Sharp Interfaces [J]. Journal of
Vacuum Science and Technology A. 2023, 41(5): 052405. (SCI)
[2] Sanjie Liu et al. Structural, Surface, and Optical Properties of AlN Thin Films
Grown on Different Substrates by PEALD. Crystals, 2023, 13(6): 910. (SCI)
[3] Sanjie Liu et al. Baking and plasma pretreatment of sapphire surfaces as a way
to facilitate the epitaxial plasma-enhanced atomic layer deposition of GaN thin
films [J]. Applied Physics Letters, 2020, 116(21): 1601. (SCI)
[4] Sanjie Liu et al. Interfacial Tailoring for the Suppression of Impurities in GaN
by In-situ Plasma Pretreatment via Atomic Layer Deposition [J]. ACS applied
materials & interfaces, 2019, 11(38): 35382-35388. (SCI)
[5] Sanjie Liu et al. PE-ALD-deposited crystalline GaN films on Si (100)
substrates with sharp interfaces [J]. Chinese Physics B, 2019, 28(2): 026801.
(SCI)
[6] Sanjie Liu et al. PE-ALD-Grown Crystalline AlN Films on Si (100) with
Sharp Interface and Good Uniformity [J]. Nanoscale research letters, 2017, 12(1):
279. (SCI)


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